200-W-Pulslaser-Reinigungsmaschine

200-W-Pulslaser-Reinigungsmaschine

Produkteinführung

Mit der zunehmenden Nutzung hochtechnologischer Fertigungsverfahren in verschiedenen Branchen ist die Nachfrage nach effizienten und effektiven Reinigungsmaschinen erheblich gestiegen. Die 200-W-Impulslaser-Reinigungsmaschine von MRJ-Laser ist aufgrund ihrer Fähigkeit, empfindliche und komplexe Oberflächen zu reinigen, ohne Schäden oder Verformungen zu verursachen, zu einer beliebten Wahl geworden.

Die 200-W-Impulslaserreinigungsmaschine verwendet hochintensive Laserstrahlen, um Rückstände, Beschichtungen und Verunreinigungen von Oberflächen zu entfernen. Mit einer maximalen Leistungsabgabe von 200 W kann die Maschine Rost, Farbe, Öl und andere Verunreinigungen effizient von verschiedenen Oberflächen entfernen, darunter Metall, Beton, Ziegel und Keramik. Dadurch werden chemische Lösungsmittel und abrasive Reinigungsmethoden überflüssig, die sowohl für die Umwelt als auch für die zu reinigenden Oberflächen schädlich sein können.

Der Laserstrahl kann gezielt auf bestimmte Bereiche ausgerichtet werden, ohne die umgebende Oberfläche zu beeinträchtigen. Das bedeutet, dass selbst empfindliche und komplexe Oberflächen, wie sie in der Luft- und Raumfahrt und Medizinindustrie vorkommen, ohne Beschädigung oder Verformung gereinigt werden können. Darüber hinaus kann die Maschine so programmiert werden, dass sie je nach Art und Dicke des zu reinigenden Materials in verschiedenen Modi arbeitet, darunter Impuls- und Dauerbetrieb.

Produktparameter

Laserreinigungsmaschinen kommen in der Photovoltaikindustrie vor allem in folgenden Bereichen zum Einsatz:

• Reinigung von PV-Modulen: Die Oberfläche von PV-Modulen kann mit Sand, Staub oder anderen Ablagerungen bedeckt sein, was zu einer geringeren Stromerzeugungseffizienz der Zellen führt. Der Einsatz einer Laserreinigungsmaschine kann Schmutz und Ablagerungen auf der Oberfläche des Moduls entfernen und so die Stromerzeugungseffizienz des Moduls wiederherstellen.
• Reinigung von Siliziumwafern: Während der Herstellung von Siliziumwafern können Oxide wie Siliziumoxid usw. auf der Oberfläche verbleiben. Diese Gase können die Qualität und Umwandlungseffizienz von Siliziumwafern erheblich beeinträchtigen. Der Einsatz einer Laserreinigungsmaschine kann die Oxide auf der Oberfläche von Siliziumwafern entfernen und die Qualität der Siliziumwafer verbessern.
• Zellreinigung: Die Vorderseite der Zelle ist mit einer reflektierenden Abdeckung versehen und es verbleiben einige Anhaftungen auf der Oberfläche, die die Stromerzeugungseffizienz der Zelle beeinträchtigen. Der Einsatz einer Laserreinigungsmaschine kann die reflektierenden Abdeckungen und Anhaftungen auf der Oberfläche der Zelle entfernen und die Stromerzeugungseffizienz der Zelle verbessern.

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